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홉칼라이이트 촉매 재생식 탈취 |
제거 방식 | 촉매 산화 재생 방식 |
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적용분야 | 도장, 석유화학, 인쇄공장내 내부 탈취 및 외부 탈취 반도체, 디스플레이공정 내부 탈취 식품공장, 접착제공장, 폐수처리장 공장내 탈취 포름알데히드 등 가스 제거 기타 악취 발생원 |
실험조건
촉매 | Purelyst MD-101H |
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형태/셀밀도 | 하니컴/200 cells/in2 |
반응온도 | 25 ℃ |
공간속도 | 20,000~100,000 h-1 |
포름알데히드농도 | 1.1 ppmv |
산소농도 | 20 vol% |
측정기기 | RM (Interscan) |
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촉매 | 오존-촉매식 탈취재생장치 |