CF₄, NF₃, SF₆ 같은 PFCs 가스를 가수분해하는 것에 더불어 산성가스 (HF, SO₂ 등), 수분, 산소 분위기에서도 N₂O 가스를 95% 이상 분해하는 촉매 (Purelyst® PFC-201)를 펠렛, 트라이로브 등의 형태로 생산하고 있다.
  디스플레이, 반도체, 태양전지 공정의 식각 (etching) 공정, 화학기상증착 (CVD) 공정에서는 PFCs 뿐만 아니라 N₂도 배출되고 있다. 이러한 공정에서 PFCs 및 N2O 가스를 동시에 분해하는 촉매의 경우 아래와 같은 장점이 있다.
        1. 에너지 비용 및 2차 탄소 저감: 촉매 방식은 가동 온도를 750 C 정도로 낮출낮출 수 있어 스크러버 전력/가스 비용을 최소 30~50% 이상 절감할 수 있다.
        2. 동시 처리의 효율성 : 한 스크러버에서 PFCs 및 N₂O를 95% 이상 제거하여 공정비용, 장비면적을 줄일 수 있다.